日本USHIO曝光燈, GL-30201BF;

在與設備商之共同開發體制的背景之下、迎合設備制造廠各種需求、開發出獲得好評且值得信賴的曝光制程用UV燈。100w～35kw等級、產品系列齊全，是*適合提升產能、并改善良品率等的光源提案。此外、顧客新設備的開發方面，我們亦配合開發適用的燈具。

特點：

·*適合曝光制程的紫外線波長

在紫外線波長中，USHIO的超高壓UV燈仍可有效運用3線（436nm?405nm?365nm)波長,是長效型、且具有穩定放射照度的高亮度光源。

·發揮光學系*大性能的點狀光源

弧形大小極接近點狀光源，易于集中與擴散光學系統上的光，因此可以得到均勻的照度分布。

·配合半導體、液晶?彩色濾光片?PDP以及印刷基板用線路成形等各種用途的燈輸出

因應回路與類型燒付照度需求的提高、小型（100w級）～超大型（35kw級）為止、適用各尺寸的燈具。

·發揮現有設備*大性能的高照度

·因應現有設備Throughput提升的需求、即使僅使用高照度燈、亦可望確實提升產能。
※部分設備商產品則必須實施設備改造。

對應需求波長的燈具開發

配合顧客新設備的開發，開發出*適合的燈具。詳情請洽詢。

用途：

·半導體回路形成用光源

·液晶回路形成用光源

·彩色濾光片回路形成用光源

·電漿顯示器回路形成用光源

·印刷電路板回路形成用光源

·MEMS回路形成用光源

·其它新的曝光用途等

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