多用途平均照射裝置Lamphouse（Multi-light）

特征

獲得好評的USHIO超高壓UV燈

配備USHIO的超高壓UV燈，此燈即使紫外線波長范圍中，仍可有效活用三條光線(365nm、405nm、436nm)是具有長效穩定之照射強度的高亮點光源。

減輕對工作片熱影響的冷鏡(Cold Mirror)

使用兩片穿透波長光，僅反射必要紫外線的冷鏡(Cold Mirror)，因此可以抑制被照射物的溫度上升。

配備高性能智能鏡片

配備高性能FLYEYE鏡頭，不降低光利用效率，可平均照射到照射面。

依據目的選擇之系統結構

除了基本構造組合＋附屬光學裝置＋快門控制裝置的基本型態之外，加上具有達到照射強度、波長、及照射口徑等光學條件的各種搭配組合,限寬廣的組合。

可選擇的波長范圍

可依需求選擇II型(365nm)、及IG型(365?405?436nm3種光線)2種光學系統。

可依需求實施光學設計與制作

有（250～25kW燈屋）（以高照度化、高平行度化、及波長選擇等提升光學性能」「省空間化等與依據規劃的光學系統）以DeeP UV燈等超高壓UV燈以外為光源的燈屋等，可配合顧客需求。

波長實例

大型Lamp House光學系統實例

250、500W系列

10、16、25kW系列

主要用途

作為使用鏡頭之均勻照射光源，或使作為使用光纖之點光源，回路圖案燒附、晶圓**曝光、及UV接著固化等，可應用于各種用途。 
半導體/半導體燒付、半導體光罩檢查、晶圓周圍曝光、晶圓**曝光、晶圓瑕疵檢查、及液晶TFT/CF燒付等。

精密機器/CD光擷取用鏡頭接著、磁頭接著、光纖涂裝、電子零件接著、水晶振蕩曝光、TAB曝光、及FPC曝光大面積投影曝光裝置等。
其他/液晶校正器、MEMS曝光、各種光學實驗等。

測試機的提案

有使用產品的實驗與測試機可供使用。測試后可以直接購買。 
※部分使用目的與用途等無法配合需求，敬請見諒。

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