特征

• 測量質量數范圍 1 至 200 amu
• 反應過程中可長期穩定測量
• 通訊接口，以太網
• 采用帶磁場的 Claude 離子源
  軟電離可減少氣體離解，并防止由于高靈敏度電離室中的熱反應引起的分解和吸附。
• 緊湊型流路控制閥
  縮短了處理室到離子源的距離，可實現快速響應和拆卸。
• 10 ^-6 至 13kPa 在很寬的壓力范圍內進行測量（取決于孔板選擇）
• 無需PC即可測量
• 一鍵式功能（任何人都可以輕松操作，無需復雜操作）
• 連接傳感器單元后，可進行高達 120°C 的高溫烘烤。
• 配備離子源和二次電子倍增管預防性維護分析儀追溯功能（磚利申請中）
• 可進行氦氣泄漏測試、空氣泄漏測試、堆積測試
• 軟件作為標準安裝（與 Windows 7/8/10 兼容）

采用

蝕刻/CVD設備

• 監測過程中的反應氣體
• 用于蝕刻和清潔過程的端點監視器
• 殘余氣體測量
• 泄漏測試