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產品資料

成都西野：ULVAC愛發科光學薄膜用EB槍

如果您對該產品感興趣的話,可以
產品名稱: 成都西野：ULVAC愛發科光學薄膜用EB槍
產品型號: EGO-40M
產品展商: ULVAC愛發科
產品文檔: 無相關文檔

簡單介紹

成都西野：日本ULVAC愛發科光學薄膜用EB槍


成都西野：ULVAC愛發科光學薄膜用EB槍  的詳細介紹

光學薄膜用EB槍

自我系列

EGO-40M

ULVAC

它是基于ULVAC多年技術積累而設計的高可靠性EB槍。

特征

  • 高性能偏轉線圈實現了出色的掃描性能和穩定且高度均勻的氣相沉積工藝。

采用

  • 用于電子束沉積的蒸發源

規格

模型 EGO-1G EGO-40M EGO-206M EGO-406M
光束偏轉角 270°
坩堝數量 0 四 6 6
坩堝容量 ―――― 10cc x 2 / 40cc x 2 20cc 40cc
冷卻水量 坩 ―――― 10升/分鐘 10升/分鐘 10升/分鐘
線圈 2升/分鐘 ―――― ―――― ――――
外形尺寸 W × D × H 168 x 285 x 174 毫米 170 x 309 x 174 毫米 200 x 339 x 176 毫米 200 x 339 x 176 毫米
大量的 10公斤 18公斤 18公斤 18公斤
適用電源 HPS-1000N-G100 / G200
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