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產品資料

成都西野供應:ULVAC愛發科濺射設備

如果您對該產品感興趣的話,可以
產品名稱: 成都西野供應:ULVAC愛發科濺射設備
產品型號: VTR-151M/SRF
產品展商: ULVAC愛發科
產品文檔: 無相關文檔

簡單介紹

配有RF電源的小型高頻濺射設備。 可以實現金屬,半導體,絕緣體成膜,因此非常適用于基礎研究開發等實驗用途。


成都西野供應:ULVAC愛發科濺射設備  的詳細介紹

濺射設備

濺射設備

VTR-151M/SRF

ULVAC

配有RF電源的小型高頻濺射設備。
可以實現金屬,半導體,絕緣體成膜,因此非常適用于基礎研究開發等實驗用途。

特點

  • 絕緣,金屬,半導體材料的濺射設備。
  • 主泵使用分子泵。
  • 可以在2inch×3陰極上*多3層,多層成膜。
  • 通過磁控濺射,濺射速度可達到30nm/min(SiO2)。
  • 搭載了基板加熱機構(350℃)。

規格

型式 VTR-151M/SRF (SCOTT-C3)
真空性能 極限壓力 6.6×10-4Pa
排氣時間 6.6×10-3Pa/5min
真空槽 真空槽 金屬腔(內徑Φ310.5mm×高160mm)
陰極 2inch、3元
基板推薦尺寸 Φ2inch(Φ50.8mm) ×t1mm
有効成膜范圍 25mm
成膜速度 SiO2 SiO2, 成膜30nm/min以上
膜厚分布 SiO2 SiO2, 成膜25mm范圍±10%以內
基板加熱溫度 Max 350℃
基板/電極間距 50mm ~ 90mm (可変:半固定)
排氣系統 主泵 分子泵 250L/sec
液體氮氣捕集器
補助泵 油回轉泵 200L/min
油霧捕集器 油霧捕集器 OMT-200A
操作系統 主閥 蝶閥
補助閥 三通閥
自動泄露閥 選項
操作 手動
控制系統 RF電源 Max 300W (0~300W可変)
皮拉尼真空計 GP-1GRY
電離真空計 ISG1/SH2-1
設置 *大尺寸 1081mm(W)×853mm(D)×1104mm(H)
質量 400kg

效用

型式 VTR-151M/SRF (SCOTT-C3)
所要電氣量 200V 單相 50/60Hz 3.5kVA
接地端子 A種 (接地抵抗値 10Ω以下)
所要水量 2.0 L/min (水溫:25℃以下、水圧:200kPa(表壓))
組合連接(電源) 橡膠絕緣軟管4m 附R3.5-5壓接端子
組合連接(接地) 接地電纜 4m 附R5.5-8壓接端子
組合連接(水) 滌綸軟管(內徑9mm×外徑15mm)、4m(2根)

尺寸圖

zu_scott_c3.gif

真空槽內部構成

基本構成

zu_scott_fc.gif

[1] 密封法蘭
[2] 電極隔板
[3] 陰極
[4] 氣體導入
[5] 視窗
[6] 快門處理
[7] 快門
[8] 排氣閥
[9] 真空計端口

支架圖

[標準]

zu_scott_holder01.gif

[特型例]

zu_scott_holder02.gif

※我們將根據您的研發目的進行定制。

可選配件

●氣體導入追加 ●DC電源
流量控制器 ●Φ4inch 1元
●基板加熱 600℃ (水冷)

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