成都西野供應(yīng)日本日立HITACHI熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU5000
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產(chǎn)品名稱: 成都西野供應(yīng)日本日立HITACHI熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU5000
產(chǎn)品型號(hào): SU5000
產(chǎn)品展商: 日本日立HITACHI
產(chǎn)品文檔: 無(wú)相關(guān)文檔
簡(jiǎn)單介紹
成都西野供應(yīng)日本日立HITACHI熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU5000
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成都西野供應(yīng)日本日立HITACHI熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU5000
成都西野供應(yīng)日本日立HITACHI熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU5000
的詳細(xì)介紹
高性能電子光學(xué)系統(tǒng)
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二次電子分辨率: 頂位二次電子探測(cè)器(2.0 nm at 1kV)＊
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高靈敏度: 高效PD-BSD, 超強(qiáng)的低加速電壓性能，低至100 V成像
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大束流(>200 nA): 便于高效微區(qū)分析
性能優(yōu)異
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壓力可變: 具有優(yōu)異的低真空(10 -300 Pa)成像性能，配備高靈敏度低真空探測(cè)器(UVD)＊
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開倉(cāng)室快速簡(jiǎn)單換樣( 大樣品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH)
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微區(qū)分析: EDS, WDS, EBSD等等
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項(xiàng)目
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內(nèi)容
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分辨率
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1.2 nm @ 30 kV
3.0 nm @ 1 kV
2.0 nm @ 1 kV 減速模式*1
3.0 nm @ 15 kV 低真空模式*2
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放大倍率
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10 - 600,000× (底片倍率), 18 - 1,000,000× (800 × 600 像素)
30 - 1,500,000× (1,280 × 960 像素)
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電子光學(xué)系統(tǒng)
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電子槍
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ZrO /W 肖特基式電子槍
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加速電壓
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0.5 - 30 kV (0.1 kV 步進(jìn))
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著陸電壓
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減速模式: 0.1 - 2.0 kV ＊1
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大束流
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> 200 nA
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探測(cè)器
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低位二次電子探測(cè)器
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低真空模式*2
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真空范圍: 10 - 300 Pa
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馬達(dá)臺(tái)
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馬達(dá)臺(tái)控制
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5 - 軸自動(dòng) (優(yōu)中心)
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可動(dòng)范圍
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X：0～100mm
Y：0～50mm
Z：3～65mm
T：-20～90°
R：360°
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大樣品尺寸
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大直徑: 200 mm
大高度: 80 mm
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選配探測(cè)器
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高分辨率頂位二次電子探測(cè)器＊1
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高靈敏度低真空探測(cè)器 (UVD)
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5分割半導(dǎo)體探測(cè)器 (PD-BSD)*3
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能譜儀 (EDS)
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波譜儀 (WDS)
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背散射電子衍射探測(cè)器 (EBSD)
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*1：
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減速功能（包含高分辨率頂位二次電子探測(cè)器）
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*2：
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低真空功能（包含5分割半導(dǎo)體探測(cè)器）
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*3：
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空壓機(jī)(本地采購(gòu))
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*：
選配附件
